엑시머세정기란?

엑시머(Excimer) 세정기는자외선보다더높은에너지가제품표면의불순물을정밀하게세정하여줍니다.
엑시머세정기는수은램프의자외선 185㎚보다더짧은 172㎚의자외선이나와서제품표면에있는오염물질을분해함으로써표면을정밀하게세정하여주거나표면을친수성으로개선해줍니다.

 규격

모델	처리 폭(㎜)	램프 개수(개)	UV 강도(㎽/㎠)	램프 수명(Hr)	석영창
T30	300	1	40	2,000	yes
NL	800	2	40	3,000	yes
HE	1,500	2	120	3,000	no
HV	2,500	3	150	3,000	no

 

  

 발광원리

엑시머램프는램프내부에크세논(Xe) 가스를충진하여양쪽전극에고전압을인가하면, 크세논가스가여기(Excite)되었다가기저상태로돌아오면서가스가가지고있는에너지를에너지가높은단파장으로내보냅니다. 에너지를받은크세논원자가여기되지않은정상상태의크세논원자와일시적으로이중체(Dimer)를형성(Excimer 상태)하기때문에여기된이량체, 즉 Excited Dimer(=Excimer)라고합니다. 엑시머램프에서나오는파장은내부에들어간가스의종류에따라달라지는데대표적인것으로는 172㎚(Xenon), 222㎚(Krypton Chloride), 308㎚(Xenon Chloride) 등이있으며모두단일파장으로발광합니다.

예) Xenon Excimer Lamp(λ=172㎚)
     e + Xe → Xe*
     Xe* + Xe → Xe*
     Xe₂* → Xe + Xe + hν(172㎚)
  

 

 

 엑시머세정의특징

  

1. 고속세정
    저압수은등에비해세정속도가약 5배입니다.
2. 단일파장
    입력에너지가대부분 172㎚단일파장으로나오므로적은전력으로큰에너지를내고처리효율이높습니다.
3. 순간점등
    필요할때만램프를조사하면되므로셔터가필요없고수명이깁니다.

 

 엑시머종류별파장

용도

	세정	개질	기타
반도체	웨이퍼 세정 레지스트 잔사 세정 몰드 세정 레지스트 애싱(ashing)	HMDS막 생성 산화막 생성	정전기 제거 광 CVD HDD 디스크 세정
OLED, LCD	유기 EL 封止管 접착성 향상 유기 EL의 일 함수 업 원판 유리 세정 COG 세정	PI 도포 전 세정 ITO 필름 작업 기능 향상 에어 갭 전처리	나노 임프린트
포토 마스크	석영/메탈 세정 마스크 세정	산화막 생성 산화 전처리
필름	플라스틱 기판 세정 광학필름 드라이 세정	각종 폴리머의 표면 개질 가교 중합	정전기 제거, 정밀 건조 금속 페이스트의 소성 가교 중합
PV 태양광	수입 유리 청소 웨이퍼 세정	ITO 필름 작업 성능 향상	정밀 건조 일 함수 향상
바이오 / 의료 / 환경	기초 소재 세정	성막 전처리 SAM 성막 전처리	친수화

 플라스틱의표면개질

예 : 엑시머 UV에의해필름